光學測試
a.波前畸變測量
設備名稱：數字式波面干涉儀
測試波長范圍：633nm和1064nm
測試尺寸范圍：Φ3mm~10mm×20mm~150mm@1064nm；
Φ3~100mm×250mm@633nm
測量精度：λ/12@1064nm；
λ/20@633nm
應用范圍：測量能夠透過1064nm光和633nm光的晶體波前畸變，例如：Ho：Cr：Tm：YAG、Er：YAG等。
b.消光比測量：
設備名稱：消光比測試系統
測試波長范圍：633nm和1064nm
測試尺寸范圍：Φ3mm~10mm×250mm
測量誤差：≤±5%
應用范圍：測量能夠透過1064nm光和633nm光的晶體的消光比，例如：Ho：Cr：Tm：YAG、Er：YAG等。
c.角度測量：
設備名稱：高精度測角儀
測試范圍：直徑≥Φ3mm
測量精度： ≤0.3"
應用范圍：測量具有一定反光率的平面固體的幾何角度，例如：晶體棱鏡，金屬多面體等。
d.面型測量：
設備名稱： ZYGO平面干涉儀
測試范圍：Φ3mm~100mm
測量精度：≤λ/20@633nm
應用范圍：晶體樣品的表面加工面型的精確測量。
e.應力測量：
設備名稱：DIAS-1600數字式應力儀
測試范圍：Φ5mm~60mm
測量精度：±6nm
應用范圍：測量樣品的微量應力大小及應力分布。
f.光譜測量：
設備名稱：LAMBDA950分光光度計
測量范圍：
波長范圍：185nm~3300nm，
尺寸范圍：Φ3mm~20mm×40mm@透過率
Φ5mm~20mm×90mm@反射率
測量精度：±0.1nm
應用范圍：樣品0-60度透過率的測量，樣品6-68度反射率的測量，樣品漫反射測量，偏振光p和s光的透過和反射測量。
g.激光損傷閾值測試
設備名稱：抗光損傷閾值測試系統
測量范圍：
波長：1064nm，
脈寬：10ns，
功率密度：600MW/cm2 ~ 2000 MW/cm2
功率波動：≤±5%
應用范圍：膜層抗光損傷閾值的測量，晶體材料抗光損傷的測量。
h.單程損耗測試
設備名稱：單程損耗測試系統
測量范圍：
波長范圍：1064nm
尺寸范圍：Φ4mm~20mm×250mm
測量誤差：≤±10%
應用范圍：測量晶體材料在1064nm波長激光單次通過后造成的光能量損耗。
